Equipment
半導体製造装置
![](https://cvr.co.jp/wp-content/uploads/2015/10/CVR-9300Tr-Web01.jpg)
CVR-9300 Series
φ12″(300mm)ウェハーに対応したプラットフォーム
大口径ウェハーに対応したプロセスリアクター
![](https://cvr.co.jp/wp-content/uploads/2015/10/CVR-9000Tr-Web011.jpg)
CVR-9000 Series
φ5″ – φ8″ ウェハーに対応したプラットフォーム
高密度・均一なプラズマにより安定した処理が可能
![](https://cvr.co.jp/wp-content/uploads/2015/10/CVR-3000SR-web01.jpg)
CVR-3000 SR
φ6″ – φ12″ ウェハー ・ 152mm角マスクに対応したシングルプラットフォーム
ロードロックを持たないシンプルな構造
設置面積が最小でコストパフォーマンスが高い
![](https://cvr.co.jp/wp-content/uploads/2015/10/CVR-3000WD-Web01-e1448899869750.jpg)
CVR-3000 WD
φ12″ ウェハーに対応した、Dry & Wetのコンビネーションプラットホーム
レジストアッシングからウェットRCA洗浄が可能です。
また、クロスコンタミネーションを意識した、裏面洗浄も可能にいたしました。