Equipment
半導体製造装置
CVR-9300 Series
φ12″（300mm）ウェハーに対応したプラットフォーム
大口径ウェハーに対応したプロセスリアクター
CVR-9000 Series
φ5″ – φ8″ ウェハーに対応したプラットフォーム
高密度・均一なプラズマにより安定した処理が可能
CVR-3000 SR
φ6″ – φ12″ ウェハー ・ 152mm角マスクに対応したシングルプラットフォーム
ロードロックを持たないシンプルな構造
設置面積が最小でコストパフォーマンスが高い
CVR-3000 WD
φ12″ ウェハーに対応した、Dry & Wetのコンビネーションプラットホーム
レジストアッシングからウェットRCA洗浄が可能です。
また、クロスコンタミネーションを意識した、裏面洗浄も可能にいたしました。