AlO Film

2015年10月22日

処　　理 ： AlO ( アルミニウムオキサイド）
用　　途 ： ゲート膜 ・水素ブロック膜 ・キャパシター膜
処理方法 ： LLD ( Layer-by-Layer Deposition )
成膜温度 ： 300-400℃