成膜サービス
2015年10月22日
処理サイズ : φ6 – φ8 インチWafer への成膜サービス
※φ8インチSiトレイの使用によりチップ処理対応可能
膜種 : TaO ・AlO ・SiO ・SiN
膜厚 : 1nm ~ 1000nm 程 (条件により異なります)
詳細は別途お打ち合わせ
2015年10月22日
処理サイズ : φ6 – φ8 インチWafer への成膜サービス
※φ8インチSiトレイの使用によりチップ処理対応可能
膜種 : TaO ・AlO ・SiO ・SiN
膜厚 : 1nm ~ 1000nm 程 (条件により異なります)
詳細は別途お打ち合わせ