Equipment

半導体製造装置

CVR-9300 Series

φ12″(300mm)ウェハーに対応したプラットフォーム
大口径ウェハーに対応したプロセスリアクター

CVR-9000 Series

φ5″ – φ8″ ウェハーに対応したプラットフォーム
高密度・均一なプラズマにより安定した処理が可能

CVR-3000 SR

φ6″ – φ12″ ウェハー ・ 152mm角マスクに対応したシングルプラットフォーム
ロードロックを持たないシンプルな構造
設置面積が最小でコストパフォーマンスが高い

CVR-3000 WD

φ12″ ウェハーに対応した、Dry & Wetのコンビネーションプラットホーム
レジストアッシングからウェットRCA洗浄が可能です。
また、クロスコンタミネーションを意識した、裏面洗浄も可能にいたしました。