TaO Film

2015年10月22日

処　　理 ： TaO ( タンタルオキサイド）
用　　途 ： キャパシター膜・耐薬液性（酸・アルカリ）
処理方法 ： LLD ( Layer-by-Layer Deposition ）
成膜温度 ： 150-400℃